MASK MVM-SEM® E3630
MASK MVM-SEM® E3600系列

随着半导体尺寸不断缩小,需要对光罩图案和孔洞等电路图案进行高精度的稳定测量和评估。半导体制造商、光罩制造商乃至设备和材料生产商等各类公司广泛采用爱德万E3600系列产品。
多视觉量测扫描电子显微镜
除了其高功能的CD-SEM特性外,E3630还实现了纳米级三维成像和测量,并能够以非破坏性的方式实时进行。对于许多需要高精度和/或三维分析的工艺而言,E3630显著降低了研发和生产TAT。

- 纳米级高速、高精度图案测量
- 三维形貌成像
- 对样品表面不规则图形进行成像
- 复杂电路图案的自动关键尺寸测量
- MEMS、纳米压印光刻和各种绝缘材料的测量和成像
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* MVM-SEM是爱德万公司在日本、美国和其他国家的注册商标或商标。