我们的关键尺寸扫描电子显微镜产品采用扫描电子显微镜技术,可高精度、高稳定性地测量和查看晶圆上的微小表面结构,如光罩蚀刻和电路。
我们的 CD-SEM 工具可测量半导体光掩膜和晶片上布线图案的宽度、高度、侧壁角度等。
我们的缺陷审查扫描电子显微镜工具可对光罩上的微小缺陷进行详细审查。