MASK MVM-SEM® E3630

随着半导体尺寸不断缩小，需要对光罩图案和孔洞等电路图案进行高精度的稳定测量和评估。半导体制造商、光罩制造商乃至设备和材料生产商等各类公司广泛采用爱德万E3600系列产品。

除了其高功能的CD-SEM特性外，E3630还实现了纳米级三维成像和测量，并能够以非破坏性的方式实时进行。对于许多需要高精度和/或三维分析的工艺而言，E3630显著降低了研发和生产TAT。