MASK MVM-SEM® E3640

MASK MVM-SEM^® E3600系列

持续小型化的半导体工艺正在拉动对光罩和晶圆稳定生产以及高精度图案尺寸测量的需求。因其具备行业领先的精密测量能力和升级后的功能，E3640足以符合这些要求，进而提高光罩研发和生产效率。

1Xnm工艺覆盖

爱德万新型E3640多视觉测量扫描电子显微镜（MVM-SEM^*）工具支持光罩和其他图案介质的图案测量，尺寸小至1Xnm。作为爱德万广泛采用的E3600系列SEM系统新产品，E3640显著提高了测量精度和产量。其在业界先进的图案测量能力支持即将到来的半导体批量生产向1Xnm节点的转变。除了用于标准半导体光刻的光罩外，E3640还为EUV光罩和NIL模板提供增强的量测性能。