MASK MVM-SEM® E3650

MASK MVM-SEM^® E3600系列

随着多重曝光技术的进步，更细间距和更复杂电路的发展，以及光罩数量和各光罩测量点数量的增加，需要对光罩上形成的布线图案尺寸进行稳定的高精度测量和评估。爱德万E3600系列产品满足先进设备的需求，具有高测量可重复性和稳定产能。

支持亚10 nm节点光罩的多维观察和SEM测量

E3650是采用爱德万专有电子束扫描技术的新系统，以更高的精度和稳定性测量光罩上的精细图案尺寸。E3650是公司E3600系列的最新产品，广受光罩SEM市场的青睐。与现有型号E3640相比，其测量产量增加了一倍。E3650能够大规模测量更加复杂的图案以及因多重图案而增加的光罩数量。除了前沿光罩技术外，新系统在测量EUV光罩和纳米压印应用主模板时也显示出卓越的性能。