MASK DR-SEM E5620

MASK-DR SEM E5600系列

E5620是专用于光掩模及掩模底版上超小缺陷的复查和分类的一款MASK DR-SEM产品(*)。该产品采用爱德万测试极其稳定的图像捕捉技术,可轻松导入掩模检测系统的缺陷定位数据,并自动对缺陷位置进行成像。与上一代DR-SEM系统E5610相比,E5620专门针对极紫外(EUV)光刻技术的掩模要求进行了多项改进设计。

  • DR-SEM = 缺陷检测 -扫描 电子显微镜
  • 高空间分辨率
  • 极其稳定的自动图像采集技术
  • 兼容掩模检测系统
  • 元素组成分析选件
  • 背散射电子分析选件

如需了解更多详情,请联系我们的销售团队。
点击此处获取SEM测量/复查产品的相关服务与支持。

支持的材料 6025尺寸光掩模
SEM空间分辨率 2nm
EDS能量分辨率(选配) 127eV

如需了解更多详情,请联系我们的销售团队。
点击此处获取SEM测量/检测产品的相关服务与支持。

ExcelPDF