MASK DR-SEM E5620

E5620是专用于光掩模及掩模底版上超小缺陷的复查和分类的一款MASK DR-SEM产品（*）。该产品采用爱德万测试极其稳定的图像捕捉技术，可轻松导入掩模检测系统的缺陷定位数据，并自动对缺陷位置进行成像。与上一代DR-SEM系统E5610相比，E5620专门针对极紫外（EUV）光刻技术的掩模要求进行了多项改进设计。