MASK MVM-SEM® E3630
MASK MVM-SEM® E3600 series

半導体の微細化にともない、ウエハやフォトマスクに形成される配線パターン寸法を高精度かつ安定的に測定評価することが要求されている昨今、当社の E3600 シリーズは、半導体メーカー、フォトマスク・メーカーおよび装置・材料メーカーなどで広く採用されています。
多次元観察・測長SEM(MVM-SEM® )
E3630は、高性能のCD-SEM(測長走査型電子顕微鏡)の機能に加えて、ナノメートル領域の3D計測や3D観察を、試料を破壊することなくリアルタイムで実現できます。高精度解析や3次元解析を必要とする各種プロセス開発および生産の大幅な TAT (Turn Around Time) 短縮に貢献します。

- ナノメートル領域パターンの高速・高精度測定
- 3Dトポグラフィー表示
- 試料表面の微小な凹凸情報の表示
- 複雑形状パターンの自動測長
- MEMS、NIL(ナノインプリントリソグラフィー)、各種絶縁材料の測定と観察
- ※ 詳細については、弊社営業担当にお問い合わせください。
- ※ MVM-SEMは、(株)アドバンテストの日本、米国およびその他の国における登録商標または商標です。