走査型電子顕微鏡（SEM）の技術を応用し、フォトマスクやウェーハ上の配線パターンなど微細な表面構造を高精度かつ安定的に測定、レビューします。
半導体マスクやウェーハ上の配線パターンの幅、高さ、側壁角度などを測定します。
フォトマスク上の微小な欠陥を詳細にレビューします。
