MASK MVM-SEM® E3640

半導体の微細化にともない、ウェーハやフォトマスクに形成される配線パターン寸法を高精度かつ安定的に測定評価することが要求されている昨今、当社の E3600 シリーズは、半導体メーカー、フォトマスク・メーカーおよび装置・材料メーカーなどで広く採用されています。

「E3640」は、マスクやパターンドメディアの微細パターン寸法を高精度で測定できるMVM-SEMです。マスク用SEM市場で広く支持されている当社「E3600シリーズ」の最新機種として、測定再現性とスループットを大幅に改善し、今後の量産工程への普及が見込まれる1Xnmノードのプロセスに対応しました。現在の半導体リソグラフィーの主流を占めるフォトマスクに加え、EUVマスクやNIL用テンプレートなどにもご利用いただけます。