MASK MVM-SEM® E3630

半導体の微細化にともない、ウエハやフォトマスクに形成される配線パターン寸法を高精度かつ安定的に測定評価することが要求されている昨今、当社のE3600シリーズは、半導体メーカー、フォトマスク・メーカーおよび装置・材料メーカーなどで広く採用されています。

E3630は、高性能のCD-SEM（測長走査型電子顕微鏡）の機能に加えて、ナノメートル領域の3D計測や3D観察を、試料を破壊することなくリアルタイムで実現できます。高精度解析や3次元解析を必要とする各種プロセス開発および生産の大幅な TAT (Turn Around Time) 短縮に貢献します。