MASK MVM-SEM® E3620

MASK MVM-SEM® E3600 series

MODEL IMAGE

様々な種類のフォトマスクを高精度に自動測定

E3620 は最先端フォトマスク向けに開発された Mask CDSEM (Critical Dimension Scaning Electron Microscope)で、45nm ノードのフォトマスク生産と、32/22nm ノードのプロセス開発用途のSEM式微小寸法測定装置です。
E3620はその特徴的なカラムデザインとユニークな電子ビーム走査技術により、フォトマスク測定に特有の帯電現象の抑制を可能にしています。カラム内部を高電圧に保つ独自のアーキテクチャにより低加速で高分解能性能を実現しています。また、新たに組み込んだ電子ビームブランキングシステムは、測定対象部分のSEM画像のみ抽出するユニークな走査手法(ROI:Region Of Interest Scan)であり、マスク表面の帯電を抑制します。これらの技術により、鮮明なSEM画像取得、および、高精度測定を実現しています。
また、レーザー干渉計を備えたステージシステムはアドバンテスト独自の技術によりナノメートルオーダーの位置決め精度を実現しています。
加えてE3620は、EUVマスクやナノインプリント用(NIL)テンプレートを含む次世代リソグラフィ用マスクを高精度に測定する事が可能です。

  • 各種フォトマスク、ナノインプリントマスクの高精度測定を実現
  • 独自のカラム技術による長期安定測定を実現
  • ナノメートルオーダーの位置決め精度を実現
  • 各種EDA Toolに対応した自動ジョブ作成の実現