MASK DR-SEM E5610

MASK-DR SEM E5600 series

MODEL IMAGE

フォトマスク対応の欠陥レビューSEM

E5610は、フォトマスク上の微小欠陥のレビューとクラシフィケーションを可能にする、MASK DR-SEM(∗1) です。
当社独自の高いチャージ抑制技術とステージ精度により、高安定・全自動画像取得が可能となり、欠陥検査装置より出力される座標データから簡単に欠陥をイメージングする事ができます。
さらにオプションで、EDS(∗2) による元素分析機能も搭載可能です。
E5610は、高精度、高スループットの欠陥レビュー性能により、最先端フォトマスクの品質向上とTAT短縮に貢献します。

∗1:DR-SEM = Defect Review - Scanning Electron Microscope (欠陥レビュー用走査型電子顕微鏡)

∗2:EDS = Energy Dispersive X-ray Spectrometry (エネルギー分散型X線分析)

  • 高い空間分解能
  • 高安定・全自動画像取得
  • 欠陥検査装置との連携
  • 元素分析機能(オプション)
搬送可能試料 6025サイズのフォトマスク
SEM空間分解能 2nm
EDSエネルギー分解能* 138eV

∗:オプション